三?奥氏体不锈钢 奥氏作不锈钢是克服马氏作不锈钢耐蚀性不足和铁素体不锈钢脆性过大
而发展起来的。基本成分为crl8?、ni8?简称18?8钢。其特点是合碳量低于0.1??利
用cr、ni配合获得单相奥氏体组织。 奥氏作不锈钢一般用于制造生产、---等化工设
备构件、冷冻工业低温设备构件及经形变强化后可用作不锈簧和钟表发条等。 奥氏体
不锈钢具有---的抗均匀腐蚀的性能?但在局部抗腐蚀方面?仍存在下列问题? 1.奥氏体
不锈钢的晶间腐蚀 奥氏作不锈钢在450?850℃保温或缓慢冷却时?会出现晶问腐蚀。合碳
量越高?晶间蚀倾向性越大。此外?在焊接件的热影响区也会出现 晶间腐蚀。这是由于在
晶界上析出富cr的cr23c6。使其周围基体产生贫铬区?从而形成腐蚀原电池而造成的。这
种晶间腐蚀现象在前面提到的铁 素体不锈钢中也是存在的。 工程上常采用以下几种方法防
止晶间腐蚀?
42crmo钢属于强度钢,具有高强度和韧性,即墨热处理,淬透性也较好,无明显的回火脆性,弹簧夹头热处理,调质处理后有较高的疲劳---和抗多次冲击能力,低温冲击韧性---。该钢适宜制造要求一定强
强度、淬透性高,韧性好,齿轮架热处理,淬火时变形小,滚针外套热处理,高温时有高的蠕变强度和---强度。用于制造要求较35crmo钢强度更高和调质截面的锻件,如机车牵引用的大齿轮、增压器传动齿轮、压力容器齿轮、后轴、受载荷---的连杆及弹簧夹,也可用于 2000m以下石油深井钻杆接头与打捞工具,并且可以用于折弯机的模具等。
半导体芯片退火
半导体芯片在经过离子注入以后就需要退火。因为往半导体中注入杂质离子时,高能量的入射离子会与半导体晶格上的原子碰撞,使一些晶格原子发生位移,结果造成大量的空位,将使得注入区中的原子排列混乱或者变成为非晶区,所以在离子注入以后必须把半导体放在一定的温度下进行退火,以恢复晶体的结构和消除缺陷。同时,退火还有施主和受主杂质的功能,即把有些处于间隙位置的杂质原子通过退火而让它们进入替代位置。退火的温度一般为200~800c,比热扩散掺杂的温度要低得多。
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